기존 공급업체 개요
현재 중국에서 계면활성제 재료의 발전은 매우 빠릅니다., 우리는 우수한 가격과 좋은 품질의 제품을 제공할 수 있습니다, 중국에서 원료의 다양성과 품질은 끊임없이 진화하고 있습니다., 우리는 중국에서 고품질의 일일 화학 제품 라인을 구축하는 데 도움을 줄 수 있는 모든 능력을 갖추고 있습니다..
썬켐
불화나트륨
Sodium fluoride is a salt of sodium and fluorine. It occurs in nature as a rare mineral called fluorspar. Fluoride salts form during uranium mining or processing because they are unintentionally generated by dissolved soluble minerals containing uranium or fluorine such as fluorite. The primary…
7681-49-4
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제품개요 & 주요 이점
Sodium fluoride is a salt of sodium and fluorine. It occurs in nature as a rare mineral called fluorspar.
Fluoride salts form during uranium mining or processing because they are unintentionally generated by dissolved soluble minerals containing uranium or fluorine such as fluorite.
The primary use is as an additive to toothpaste and other oral care preparations such as mouthwash and dental varnishes against caries (cavities, tooth decay). It decreases the tendency of teeth to decay.
It can also preserve food, poultry feed supplementation, anti-scaling, acid treatment, research applications, semiconductor production.
기술 사양
| 재산 | 참고값 |
|---|---|
| 비점 | 1700°C |
| 녹는 점 | 993°C |
| 밀도 | 2.558 |
| 수용성 | 4 g/100mL (25 °C) |
| 보관 조건 | 14,8618 |
| 용해도 | H2O: 0.5 M at 20 ℃, 분명한, 무색의 |
| 증기압 | 1.4 mmHg ( 0 ℃) |
| PH | 7.0-10.0 (25℃, 0.5H2O 중 M) |
기존 제품 참조 데이터. 주문 전 제공 등급의 사양을 확인하세요..
애플리케이션
Applications of Sodium Fluoride include anti-cavity fluoride treatments in toothpaste, kitchen cleaners, 등., water fluoridation, medical applications such as reducing the risk for tooth decay or caries in children.
Sodium fluoridation of drinking water is used extensively as a community-based dental caries prevention technique to produce an ongoing preventive effect on the population.
It has been used for decades to degrease metals in various industrial processes. It is one of the most commonly used etchants for integrated circuit fabrication of microchips and microelectromechanical systems (MEMS).
It is used in semiconductor production. The removal of metal corrosion products from the semiconductor wafer surface does not affect semiconductor properties or performance.
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